Turun yliopistossa perjantaina 29.8 väittelevä Zahra Rad on kehittänyt tekniikkaa, jolla voi olla mullistava vaikutus puolijohteiden valmistuksessa. Uudenlaisen atomitason pintapuhdistustekniikalla voidaan valmistaa entistä pienempiä, pitkäikäisempiä ja tehokkaampia siru- ja elektroniikkaratkaisuja.