Turun yliopistossa ensi viikon perjantaina väittelevä Zahra Rad on kehittänyt uutta tekniikkaa, jolla voi olla mullistava vaikutus puolijohteiden valmistuksessa. Uudenlaisen atomitason pintapuhdistustekniikalla voidaan valmistaa entistä pienempiä, pitkäikäisempiä ja tehokkaampia  siru- ja elektroniikkaratkaisuja.